Derzeit wird das chemische mechanische Polieren häufig in der Zwischenschicht-Planarisierungsverarbeitung von Substratwafern und mehrschichtiger Verdrahtung verwendet. Das Polierkissen ist ein wichtiger Bestandteil des CMP-Systems des chemischen mechanischen Poliers (CMP). Es hat die Funktionen des Speicherns der Polierflüssigkeit und des Transports